Nga đang hướng tới việc phát triển công nghệ chế tạo thiết bị EUV với chi phí hợp lý và quy trình hoạt động đơn giản hơn so với những gì hiện có từ ASML. Những máy in mới này sẽ áp dụng tia laser ở bước sóng 11,2 nanomet, thay vì bước sóng tiêu chuẩn 13,5 nanomet mà ASML sử dụng. Tuy nhiên, điều này tạo ra thách thức lớn, vì bước sóng mới không tương thích với các hệ thống EUV hiện tại. Do đó, Nga sẽ phải bắt tay vào xây dựng một hệ sinh thái EUV hoàn toàn mới, có thể mất nhiều năm hoặc thậm chí cả một thập kỷ để hoàn thành.
Dự án tiên tiến này được dẫn dắt bởi Nikolay Chkhalo từ Viện Vật lý vi cấu trúc của Viện Hàn lâm Khoa học Nga. Mục tiêu chính là phát triển máy EUV với hiệu suất cạnh tranh, đồng thời tối ưu hóa chi phí sản xuất và vận hành so với công cụ của ASML. Khác với hệ thống quang khắc EUV hiện tại của ASML, máy quét EUV do Nga phát triển sẽ sử dụng nguồn laser dựa trên xenon với bước sóng 11,2 nm. Công nghệ mới này hứa hẹn mang lại cải thiện 20% về độ phân giải, cho phép tạo ra các chi tiết tinh xảo hơn và giảm chi phí cho các thành phần quang học.
Máy in thạch bản của Nga có năng suất thấp hơn khoảng 2,7 lần so với thiết bị của ASML, nhờ vào nguồn sáng 3,6 kW. Tuy nhiên, mức hiệu suất này vẫn đáp ứng đủ cho quy trình sản xuất quy mô nhỏ. Việc chuyển đổi sang bước sóng 11,2 nm không hề đơn giản, vì tất cả các thành phần quang học, bao gồm gương, lớp phủ và chất cản quang, cần phải được tái thiết kế để phù hợp với bước sóng mới.
Máy EUV của Nga đang tạo ra những kỳ vọng lớn trong ngành công nghiệp bán dẫn. Sản phẩm này hứa hẹn sẽ giúp giảm thiểu sự phụ thuộc của thế giới vào ASML, với tiềm năng mở ra những cơ hội mới cho các nhà sản xuất. Sự phát triển này không chỉ giúp tăng cường khả năng cạnh tranh mà còn thúc đẩy tiến bộ công nghệ trong lĩnh vực bán dẫn.
Quá trình phát triển máy in thạch bản sẽ trải qua ba giai đoạn chính. Giai đoạn đầu tiên tập trung vào nghiên cứu cơ bản và thử nghiệm các công nghệ cốt lõi. Tiếp theo, giai đoạn thứ hai hướng đến việc tạo ra nguyên mẫu có khả năng xử lý 60 tấm wafer 200 mm mỗi giờ, đồng thời tích hợp vào dây chuyền sản xuất chip trong nước. Giai đoạn cuối cùng tập trung vào việc cung cấp một hệ thống hoàn chỉnh, có khả năng xử lý 60 tấm wafer 300 mm mỗi giờ. Tuy nhiên, lộ trình phát triển này vẫn chưa xác định thời gian cụ thể cho từng giai đoạn.
Việc xây dựng hệ sinh thái quang khắc EUV mới với bước sóng 11,2 nm được dự đoán sẽ gặp nhiều khó khăn tại Nga. Chuyên gia nhận định rằng quá trình này có thể kéo dài tới hàng thập kỷ trước khi được hoàn thiện. Điều này cho thấy thách thức lớn mà đất nước này sẽ phải đối mặt trong tương lai gần.
